最佳钝化质量,杜绝交叉污染

HELiAPECVD是高质量本征及掺杂非晶硅膜层沉积的最佳解决方案,专门用于生产异质结太阳能电池片。.

梅耶博格的HELiAPECVD系统可实现均匀、稳定的膜层沉积,确保最佳的性能和钝化质量,以便生产高效异质结太阳能电池片。作为高度集成的生产平台,HELiAPECVD系统可完成包括硅片传送在内的所有本征及掺杂非晶硅膜层沉积工序。

HELiAPECVD系统的优势:1

  • 最佳钝化特性,确保最高的电池片转换效率
  • 无交叉污染,杂质含量最低
  • 最高良率和工艺稳定性
  • 运行成本最低
  • 生产效率和开机率最高
  • 满足智能工厂/“工业4.0”的要求
  • 符合未来的技术发展趋势(较宽的工艺窗口)

1可媲美其它任何生产异质结电池片的PECVD系统

本征钝化层在p-n结界面处不会发生交叉污染(同类系统采用同一块载板来传送p掺杂层和本征层,因此容易造成交叉感染。)

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