SiNA

Frontseitige SiN-Beschichtung

SiNA® ist ein in der Photovoltaik-Industrie bewährtes PECVD-System für die Antireflexbeschichtung von Silizium-Solarzellen

Das modular aufgebaute Beschichtungssystem SiNA® beruht auf einem inline-Konzept, bei dem die Wafer auf flachen Waferhaltern durch die gesamte Anlage transportiert werden. Die in der Anlage verbauten Mikrowellen-Plasmaquellen sorgen für ein sehr homogenes Plasma. Seit über 15 Jahren sind die SiNA-Anlagen mit inzwischen mehr als 500 Systemen weltweit im Einsatz. 

SiNA® ist das einzige SiN-Abscheidesystem für sie separate Frontseiten-Beschichtung von kristallinen Silizium-Solarzellen. Die abgeschiedenen Schichten eignen sich als Antireflexbeschichtung, die zu einer besseren Ausnutzung des einfallenden Sonnenlichts führt.

Das hochwertige SiNA®-Beschichtungsverfahren ermöglicht eine langfristige Prozessstabilität. Dabei zeichnet sich das Anlagensystem durch eine hohe Betriebsbereitschaft bei gleichzeitig geringen Gesamtbetriebskosten aus. Eine mögliche Erweiterung des modularen Systems zu anderen Anlagenkonfigurationen wie DiVA® oder FABiA® bietet attraktive technische Optionen und Investitionssicherheit.

Vorteile des SiNA®-Systems :

  • Standardlösung für SiN-Antireflexbeschichtung auf der Substratoberfläche (sunny side)
  • Bester Ertrag: Kontinuierlicher Materialfluss dank kontinuierlichem Beschichtungsverfahren
  • Industrieerprobt: Mehr als 500 Anlagen im weltweiten Massenproduktions-Einsatz
  • Geeignet für PERC- und PERT- Zellkonzepte
  • Geeignet für mono- und multikristalline Wafer
  • Perfekt abgestimmt auf MAiA®-System (SiNA®: SiN Vorderseite; MAiA®: AlOx + SiN Rückseite)

Modularer Aufbau

Das modulare SiNA®-System besteht aus einem Prozess-Modul sowie Buffer-Modulen. Eine Anlage kann durch das Hinzufügen weiterer Prozess-Module zu anderen Anwendungs-Konfigurationen umgerüstet werden.

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