DiVA

同一台设备完成正反面SiN沉积

DiVA® 6.1一体化实现正反面SiN沉积

新型DiVA® 6.1设备是新建电池片产线或单面沉积向双面沉积设备升级的理想选择。该设备能够降低总体生产成本,并确保两个工序的投资回报最大化。

DiVA® 6.1 因其高度多样化的沉积工艺以及模块化理念脱颖而出。1 GW产能仅需4台DiVA®设备。与分开两台沉积设备相比,相当于占地面积节约50%。DiVA®的工艺流程经过优化,降低了工艺气体的消耗量和用电量,并极大地节省了整个设备使用周期的人工成本。

DiVA®支持PERC、p型和n型电池片,以及单晶和多晶硅片。

为您带来的效益:

  • 镀SiN减反射膜标准解决方案,确保高投资回报率   
  • 同一台设备完成双面SiN沉积
  • 产能为6,300片/小时
  • 与单工序设备相比,占地面积节约50%
  • 采用连续镀膜工艺,确保良率最高
  • 提供世界一流的客户服务,最大程度提高开机率
  • 完善的升级方案

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久经考验的PERC工艺路线,在设备量产提升阶段将得到进一步的巩固及优化。一体化设备通过全流程工艺自动化将电池片的生产复杂性降至最低。

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