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PVD

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Abscheidung von dünnen Schichten auf planen als auch auf 3-dimensionalen Substratoberflächen zur Herstellung von Einzelschichten und komplexen Mehrlagenschichten

Unsere Anlagen nutzen Niederdruckverfahren zur Abscheidung von dünnen Schichten auf planen als auch auf 3-dimensionalen Substratoberflächen. Es können Einzelschichten als auch komplexe Mehrlagenschichten aus sehr unterschiedlichen Schichtmaterialien hergestellt werden.

Der Begriff physikalische Gasphasenabscheidung (engl. physical vapour deposition, PVD) bezeichnet eine Gruppe von vakuumbasierten Beschichtungsverfahren bzw. Dünnschichttechnologien. Anders als bei Verfahren der chemischen Gasphasenabscheidung wird mithilfe physikalischer Verfahren das Ausgangsmaterial in die Gasphase überführt. Das gasförmige Material wird anschließend zum zu beschichtenden Substrat geführt, wo es kondensiert und die Zielschicht bildet.

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