Ionenstrahlen Ätzen

In der Halbleitertechnik, Elektronik, Optik und anderen speziellen Branchen werden zur Bearbeitung von Substratoberflächen, z.B. zur Herstellung von Mikrostrukturen, größtenteils Trockenätzverfahren eingesetzt.

Unsere Anlagen erfüllen die speziellen Anforderungen der verschiedenen Verfahren an die Strukturübertragung, wie Selektivität der Ätzung, erreichbare Ätzraten und Dimensionen. Es stehen eigene entwickelte Ionenstrahlquellen für eine breite Auswahl von Substratabmessungen zur Verfügung.

Es werden sowohl Inertgasprozesse als auch Reaktivgasprozesse unterstützt. Hierfür können Inertgase wie Ar, Kr, He usw. als auch Reaktivgase wie beispielsweise O2, N2, fluorbasierende und chlorbasierende Ätzgase und auch Gasmischungen aus verschiedenen Gasen verwendet werden.
Zur Verbesserung der Homogenität wird meist mit einem rotierenden Substrat gearbeitet.

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Sales MicroSystems

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