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CVD

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Abscheidung von dünnen Schichten auf planen als auch auf 3-dimensionalen Substratoberflächen zur Herstellung von Einzelschichten und komplexen Mehrlagenschichten

CVD

Unsere Anlagen nutzen Niederdruckverfahren zur Abscheidung von dünnen Schichten auf planen als auch auf 3-dimensionalen Substratoberflächen. Es können Einzelschichten als auch komplexe Mehrlagenschichten aus sehr unterschiedlichen Schichtmaterialien hergestellt werden.

Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (engl. chemical vapour deposition, CVD), versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und Lichtwellenleitern eingesetzt werden. Die Dissoziation (das Aufbrechen) der Moleküle des Reaktionsgases geschieht durch externe Zufuhr von Wärme sowie die freigewordene Energie der folgenden chemischen Reaktionen.

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