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ALD

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Abscheidung von dünnen Schichten auf planen als auch auf 3-dimensionalen Substratoberflächen zur Herstellung von Einzelschichten und komplexen Mehrlagenschichten

Unsere Anlagen nutzen Niederdruckverfahren zur Abscheidung von dünnen Schichten auf planen als auch auf 3-dimensionalen Substratoberflächen. Es können Einzelschichten als auch komplexe Mehrlagenschichten aus sehr unterschiedlichen Schichtmaterialien hergestellt werden.

Die Atomlagenabscheidung (engl. atomic layer deposition, ALD) ist ein stark verändertes CVD-Verfahren zur Abscheidung von dünnen Schichten durch zwei oder mehr zyklisch durchgeführte selbstbegrenzende Oberflächenreaktionen. Die Schichten haben in der Regel eine polykristalline oder amorphe Struktur.

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