FLEx R2R sALD

Räumliche ALD-Beschichtungstechnik

Die FLEx R2R sALD ist eine Produktionsanlage für die Abscheidung von dünnen R2R Schichten.

Die Atomlagenabscheidung (ALD) nutzt die zyklische Exposition eines Substrats auf verschiedene Vorprodukte, wobei in jedem Zyklus eine Schicht mit der Dicke eines einzelnen Atoms ausgebracht wird. Dies bürgt für eine exakte Kontrolle der Schichtdicke, eine äusserst genaue Schichtzusammensetzung und ausgezeichnete Konformität ohne Kosten von der Beschichtung im Vakuum.

Die räumliche ALD (s-ALD) ist eine verfeinerte Form der herkömmlichen ALD mit einer erheblich verbesserten Abscheiderate.

Die FLEx R2R sALD eignet sich für eine Vielzahl von Einsatzbereiche: optisch transparente Barrierefolien, Entwicklung optischer Mehrlagenschichten, Zn(O,S) Pufferschichten für CIGS, die auf diesen Vorteilen von s-ALD aufbauen.

Neben hohem Durchsatz besticht die FLEx-Plattform die Integration verschiedener zusätzlichen Beschichtungen und vorgeschalteten Behandlungstechnologien.

Hauptvorteile

  • Abscheideraten von > 1 nm/s – 100 mal schneller als bei der herkömmlichen ALD
  • Breiter Anwendungsbereich mit einer Vielzahl von Ausgangsstoffen
  • Mehrschichten-Stacking mit mehreren Vorprodukten
  • Verfahren mit Atmosphärendruck (keine Vakuumverfahren)
  • Schichtdickenkontrolle auf Atomebene
  • Einfache Anpassung der Schichtdicke
  • Ausgezeichnete Konformität
  • Keine Pinholes
  • Kein Kontakt mit der Abscheidungsseite der Folie
  • Keine parasitäre Deposition
  • Geringer Raumbedarf

Hauptmerkmale

  • Präzise Kontrolle über Expositionszeit und Verfahrenstemperatur
  • Hochpräzis drehende spatiale ALD-Trommel und Bahnzugregelung
  • Hochgenaue Bahnzugregelung für Auf- und Abwickelmodule
  • Hohe Verfügbarkeit
  • Grosse Flexibilität bei Folienart und Schichtdicke
  • Skalierbare Plattform
  • Serienfertigung 24/7
  • Anpassbare Konfiguration
  • Verschiedene optionale Module erhältlich

Kontakt

Sales Meyer Burger (Netherlands) B.V.

+31 (0) 40 2581 581

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