MW PECVD

Die Mikrowellen-PECVD liefert ausgezeichnete Abscheidungsraten. Das Substrat wird nur in minimalem Umfang Ionen und Hitze ausgesetzt. Wir verwenden Mikrowellengeneratoren sowohl für Sheet-to-Sheet- als auch für Roll-to-Roll-Produkte.

Mikrowellen PECVD für OLED

Bei der PECVD (plasma-enhanced chemical vapour deposition) erzeugt man mithilfe elektrischer Energie eine Glimmentladung (Plasma) und überführt deren Energie in ein Gasgemisch. Dadurch entstehen im Gasgemisch reaktive Radikale, Ionen, neutrale Atome und Moleküle sowie andere hochangeregte Spezies. Durch Interaktion dieser atomaren und molekularen Fragmente mit einem Substrat wird letzteres je nach Art der Wechselwirkung entweder geätzt oder beschichtet.

Da die reaktiven und energetischen Spezies durch Kollision in der Gasphase selbst entstehen, braucht das Substrat nicht erhitzt zu werden.

Mithilfe der linearen Mikrowellenquellen wird eine ausgezeichnete Beschichtungshomogenität gewährleisten. Typische Abscheidungsmaterialien sind SiNx, SiOx und Al2O3 für optische Beschichtungen oder für Schutzschichten.

Anwendungsgebiete sind die Dünnschichtverkapselung empfindlicher dünner und biegsamer Elektronikkomponenten wie OLEDs, Dünnschichtbatterien, Perowskit-Module, Quantum-dot-Geräte und gedruckte Elektronik.

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Sales Meyer Burger (Netherlands) B.V.

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