CVD

Die chemische Gasphasenabscheidung (engl. chemical vapour deposition, CVD) ist ein Beschichtungsverfahren, welches unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen und Lichtwellenleitern eingesetzt werden. Die Dissoziation (das Aufbrechen) der Moleküle des Reaktionsgases geschieht durch externe Zufuhr von Wärme sowie durch die freigewordene Energie der folgenden chemischen Reaktionen.

Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) Beschichtungsverfahren

Unsere Anlagen nutzen Niederdruckverfahren zur Abscheidung von dünnen Schichten auf planen oder auf 3-dimensionalen Substratoberflächen. Es können Einzelschichten als auch komplexe Mehrlagenschichten aus sehr unterschiedlichen Schichtmaterialien hergestellt werden.

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