MAiA

System für PERC-Zellbeschichtungen

MAiA® nutzt die hocheffiziente PERC-Technologie für die Waferbeschichtung. Neue Entwicklungen ermöglichen ein Upgrade auf MAiA® 6.1.

Das modular aufgebaute und ausbaubare Konzept der  MAiA® 6.1 garantiert eine hohe Rendite. Integrierte rückseitige AlOx/SiN-Passivierung vereinfacht die Zellproduktion durch vollständige Prozessautomation.

MAiA® eignet sich für PERC- und PERT-Zellkonzepte sowie für mono- und multikristalline Wafer. Beschichtung von bis zu 6300 Wafer pro Stunde werden unterstützt.

Mit über 30 GW installierten Anlagen weltweit verfügt MAiA® über alle Vorteile einer industriebewährten Lösung. Die MAiA®-Plattform bietet vielfältige Abscheidungsschichten und eine anpassbare Anzahl Plasmaquellen für benutzerspezifische Schichtdicken.

Monokristalline Wafer erreichen Effizienzwerte von > 22% in der Massenfertigung. Optimierte Prozesse senken TMA- und Stromverbrauch und verringern den Bedarf an Manpower während des gesamten Zyklus.

Bewährte PERC-Baselinerezepte werden unterstützt und beim Ramp-up optimiert.

Vorteile von MAiA für PERC Zellbeschichtungen:

  • Zwei modulare Prozesse in einer Anlage integriert
  • Tiefe Gesamtkosten mit deutlicher Reduzierung der Betriebskosten
  • Bester Volumennutzungsgrad, 30% weniger Platzbedarf als eine Einzelprozessanlage
  • Durchsatz bis 6300 wph
  • Höchster  Ertrag dank möglichst wenig Wafer-Handling
  • Maximierte Betriebszeit und marktführender Kundensupport
  • Umfassende Upgrade-Strategie

Modularer Aufbau

Das modulare MAiA®-System besteht aus mehreren Prozessmodulen, die über Buffer-Module verbunden sind. Eine Anlage führt so nacheinander mehrere Prozesse durch. Jede Einheit ist für eine spezifische Anwendung konfiguriert.

Verschiedene benutzerspezifische Beschichtungsprozesse können ebenso programmiert werden wie Plasmaätzverfahren.

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