SiNA

Frontseitige SiN-Beschichtung

SiNA® ist ein bewährter PECVD-Reaktor und wurde eigens für die Antireflexbeschichtung von SiN-Layer konzipiert.

Das System beruht auf einem Inline-Konzept, bei dem die Wafer mittels Waferhaltern transportiert werden. Die produzierende Mikrowellenplasmaquellen sorgen für ein sehr homogenes Plasma. Mehr als 500 solcher Anlagen sind seit über 10 Jahren in Betrieb.

SiNA® ist das einzige SiN-Abscheidesystem für Frontseiten. Die abgeschiedenen Schichten eignen sich als Antireflexbeschichtung für kristalline Siliziumsolarzellen für die  Reflexionsreduktion und zur besseren Nutzung des Sonnenlichts.

Hochwertige Beschichtungsverfahren ermöglichen eine langfristige Prozessstabilität. SiNA® besticht mit hoher Geräteverfügbarkeit bei geringen Gesamtbetriebskosten. Ein Ausbau oder Upgrade auf neue Anlagen wie DiVA® oder FABiA® bieten attraktive Optionen. Weitere Informationen erhalten Sie von unserem Sales- oder Service-Partner.

Ihre Vorteile:

  • Standardlösung für SiN-Antireflexbeschichtung auf der Substratoberfläche (sunny side)
  • Bester Ertrag – kontinuierlicher Materialfluss dank kontinuierlichem Beschichtungsverfahren
  • Industriebewährt – über 500 Anlagen im Einsatz
  • Geeignet für PERC- und PERT-Zellkonzepte sowie monokristalline und multikristalline Wafer

Kontakt

Global Sales

+41 33 221 28 00

Events

15.05. - 17.05.2019
Intersolar Europe
München, Deutschland
04.06. - 06.06.2019
SNEC
Shanghai, China

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