FLEx XL

S2S PECVD-Technologie mit hohem Durchsatz

Die FLEx XL ist eine plasmagestützte PECVD-Produktionsanlage für die Abscheidung von dünnen und dicken Schichten.

Die FLEx XL ist eine plasmagestützte PECVD-Produktionsanlage für die Abscheidung von dünnen und dicken Schichten für verschiedene Anwendungsbereiche wie Photovoltaik, Displays und Batterien. Die FLEx XL ist eine Weiterentwicklung der DEPx-Serie, die über eine nachweisbare Erfolgsbilanz in der Produktion hocheffizienter Solarzellen verfügt. Die FLEx XL bietet eine schnelle und kostengünstige Abscheidung von verschiedenen Schichten für unterschiedliche Anwendungsbereiche.

Die Anlage ist modular aufgebaut und daher einfach konfigurierbar. Die FLEx XL kombiniert ein innovatives lineares Bewegungssystem (LMS) mit der proprietären Expanding Thermal Plasma (ETP)-Technologie und bietet so maximale Prozessgeschwindigkeit und Zuverlässigkeit.

Hauptvorteile

  • Äusserst geringe Betriebskosten
  • Lange Betriebszeit, einfache Bedienung und Wartung
  • Maximale Abscheidegeschwindigkeit
  • Hohe Prozesseinheitlichkeit
  • Einfache Konfigurierbarkeit und Multilayer-Anwendungen
  • Modularer Aufbau
  • Geringer Platzbedarf
  • Automatisierung
  • Integrierter Schaltschrank
  • Integrierter Gasschrank
  • Inline-Messtechnik (optional)

Kontakt

Sales Meyer Burger (Netherlands) B.V.

+31 (0) 40 2581 581

Standort

Meyer Burger (Netherlands) B.V.

Luchthavenweg 10
NL-5657 Eindhoven

+31 4025 81581

+31 40 2350 645

https://www.meyerburger.com/de/standorte/eindhoven-niederlande/

Expanding Thermal Plasma (ETP)

Der PECVD-Prozess basiert auf der proprietären ETP-Quellen-Technologie, einer Gleichstrom-Argonplasma-Entladung. Das Niederspannungs-Hochdruck-Argonplasma dehnt sich bei Überschallgeschwindigkeit durch einen schmalen Kanal in die Abscheidekammer aus. An der Austrittsdüse wird ein zweites Gas in den Plasmastrahl gespritzt, und ein drittes Gas genau über die Substrate injiziert. Durch die Wahl der richtigen Kombination von Vorläufergasen kann die Ablage verschiedene Arten von Schichten abscheiden.

Bei der ETP-Quelle handelt es sich um ein Remote-Plasma, d.h. Plasmaproduktion, -transport und -abscheidung erfolgen getrennt. Das Substrat spielt in der Plasmaproduktion keine Rolle und der Ionenbeschuss des Substrats mit hochenergetischen Partikeln fällt praktisch weg.

Die Anlage enthält ein lineares Bewegungsmodell (LMS) mit patentierter Technologie. Die Träger werden auf einem Schienensystem im Vakuum ohne Durchführung nach draussen befördert. Die Bewegung der Träger erfolgt über ein ausserhalb des Vakuums positioniertes Magnetsystem. Dies macht das Transportsystem beinahe wartungsfrei und reduziert das Risiko eines Vakuumlecks auf ein Minimum.

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