FLEx S2S sALD

Räumliche ALD Beschichtungstechnologie

Die FLEx S2S sALD (sheet to sheet räumliche ALD Atomlagenabscheidung) ist geeignet für Anwendungen, welche eine hervorragenden Homogenität kombin

Die FLEx S2S sALD (sheet to sheet räumliche ALD Atomlagenabscheidung) ist geeignet für Anwendungen welche eine hervorragenden Homogenität kombiniert mit der hohen Geschwindigkeit der ALD-Beschichtungstechnologie erfordern. Das entwickelte Verfahren ist auf die Industrieanlage FLEx R2R sALD (roll to roll räumliche ALD Beschichtungslösung) übertragbar.

Hauptvorteile

  • Wachstumsraten > 1 nm / s; 100-mal im Vergleich zu herkömmlichen ALD
  • Flexibilität bei der Substratmaterial und Schichtdicke
  • Keine Pinholes
  • Dickenregelung gemäss atomarer Skala
  • Keine Gasphasenreaktion. Keine parasitäre Ablagerungen
  • Ausgezeichnete Konformität
  • Hohe Anwendungspotenzial in der flexiblen Elektronik, Photovoltaik, OLED
  • Keine Vakuumverfahren, Verfahren bei Atmosphärendruck
  • Geringer Raumbedarf

Hauptmerkmale

  • Einzigartige S2S (sheet to sheet) räumliche Atomic Layer Deposition (ALD)
  • Einsetzbar das Abscheiden verschiedener Schichten
  • Exakt gesteuerte Belichtungszeit, Konzentration und Prozesstemperatur
  • Prozesstemperatur bis zu 300 ° C
  • Hochpräzise Unterdruckspannvorrichtung
  • Einspritzkopf mit Gaslager
  • Kein Kontakt mit Oberfläche
  • Verschiedene optionale Module erhältlich

Kontakt

Sales Meyer Burger (Netherlands) B.V.

+31 (0) 40 2581 581

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