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HELiUS

Flexible Systeme für grossflächige Plasma Prozesse

Mit der HELiUS Plattform ebnet Meyer Burger den Weg für den Einstieg in den Photovoltaik-Markt.

HELiUS Anlagen offerieren skalierfähige, grossflächige PECVD und PVD Prozesse, entweder als modulares Batch Konzept oder als Seriensystem. Es kann eine exzellente Si Oberflächenpassivierung erreicht werden, welche letztlich zu hohen Zelleffizienzen führt.

Der selbst entwickelte und patentierte RF Plasmaparallelplattenreaktor S-Cube®, der auf einer Box-in-Box Anordnung basiert, ermöglicht eine homogene Dünnfilmbeschichtung während des PECVD Prozess bei geringster Verunreinigung, sowohl für intrinsische, als auch die n und p dotierten a-Si Schichten. Im PVD Prozess werden ITO and Ag Schichten in einer linearen Sputter Magnetron Anordnung abgeschieden.

Den Kundenbedürfnissen gerecht werdend, ist das HELiUS Anlagensystem in verschiedenen Konfigurationen erhältlich, höhere Schichtqualität und/ oder höherer Durchsatz.

Ihre Vorteile

  • modulares Batch Konzept oder Seriensystem
  • Skalierfähige, grossflächige PECVD und PVD Prozesse
  • Exzellente Si- Oberflächenpassivierung
  • Homogene Dünnfilmbeschichtung auf grosser Fläche
  • Stabile Temperatur während des Prozesses und Transports mit schnell heizenden Load-Modulen
  • Verhindert Verunreinigungen
  • Anpassbare Systemparameter abhängig von Schichtkonfigurationen

 PES Solar Issue 30 2017: Heterojunction solar cells go big

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