DiVA

Vorder- und rückseitige SiN-Beschichtung

DiVA® 6.1 vereint SiN-Abscheidungsverfahren für Vorder- und Rückseite.

Die neue DiVA® 6.1 ist die ideale Wahl für neue Zellproduktionslinien oder als Upgrade vom einfachem zum doppelten Abscheideequipment. Sie senkt die Gesamtbetriebskosten und gewährleistet beste Rentabilität für beide Prozesse.

DiVA® 6.1 überzeugt mit vielfältigen Abscheideverfahren und einer modularen Auslegung. Für 1 GW sind nur 4 DiVA® nötig. Verglichen mit Doppelabscheidesystemen benötigt sie 50% weniger Stellfläche. Optimierte Prozesse senken TMA- und Stromverbrauch und verringern den Bedarf an Manpower während des gesamten Zyklus.

DiVA® eignet sich für PERC-p-type- und n-type-Zellkonzepte sowie mono- und multikristalline Wafer.

Ihre Vorteile:

  • Beste Rentabilität für Standard-SiN-Antireflexbeschichtung  
  • Doppelseitige SiN-Abscheidung in der gleichen Anlage
  • Durchsatz 6000 wph
  • 50% tieferer Footprint als bei Einzelprozesssystemen
  • Bester Ertrag dank effizienten Beschichtungsverfahren
  • Maximierte Betriebszeit und marktführender Kundensupport
  • Umfassende Upgrade-Strategie

Kontakt

Global Sales

+41 33 221 28 00

Events

15.05. - 17.05.2019
Intersolar Europe
München, Deutschland
04.06. - 06.06.2019
SNEC
Shanghai, China

Weitere Informationen

Bewährte PERC-Baselinerezepte werden unterstützt und beim Ramp-up optimiert. Integrierte Tools und vollständige Prozessautomation verringern die Komplexität der Zellproduktion.

Service-Angebote

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