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离子束修整

离子束修整

制造半导体和高精度光学设备时,光学表面的功能膜层必须具备很高的质量、功能性和膜厚均匀性。我们的离子束技术能够完美地满足上述要求。

使用离子束修整表面时,需要选择性地对表面进行局部刻蚀,以便形成各种表面形貌。

校正后,衬底上可实现的膜层厚度分布通常在亚纳米范围内。

尤其是在制造表面声波(SAW)滤波器和体声波(BAW)滤波器时,离子束修整可以用来调整表面特性,从而起到频率调谐的作用。例如,在压电谐振器和读写模块的生产过程,该工艺已经成为一道关键的制造工序。

其他解决方案包括用于曲面光学衬底和自由曲面的离子束修形工艺。对于要求苛刻的大面积衬底,我们开发了基于ICP(感应耦合等离子体)的专用离子束源,其作用半径更大。这样,离子束源就能在静止不动的衬底上方移动(向下发射,衬底固定),因此可以加工用于天文及其他应用领域的大型敏感镜面。

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